余政储出【2021】20号地块项目施工工程

本工程位于杭州市余杭区未来科技城，北至永兴路，南至爱橙街，东至思凯路，西至景兴路。项目总用地面积约24743m2；总建筑面积约209212m2，其中地上建筑面积约143264 m2，地下建筑面积约65948 m2。拟建物主要由2幢32F（最大高度规划H=150.0m）的办公楼、7F裙楼（高度H=32.2m）等附属建筑组成，场地正负0.000为5.20m。设三层整体地下室，最大开挖深度约16m，项目工程造价为5377万元。工程桩采用钻孔灌注桩，Φ800钻孔桩共1389根；围护桩采用钻孔灌注桩及水泥搅拌桩，其中Φ1000钻孔桩共209根，Φ1100钻孔桩共175根、Φ800立柱桩共233根，Φ850五轴水泥搅拌桩共255幅。开挖深度为16m。